1.仪器名称、型号：高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统（PVD500S）
3.仪器功能介绍：
支持直流溅射、射频溅射，并可实现单层、多层及多元化合物薄膜的制备。通过通入活性气体，可以直接沉积化合物薄膜广泛适用于氧化物（如氧化钛、FTO）等多种薄膜的制备。
4.仪器主要参数：（1）样品处理能力：样品台具备旋转、加热以及加偏压的功能
（2）磁控靶：配备4套磁控溅射靶，靶材尺寸支持 ≥2英寸
（3）核心结构与真空：采用双室结构（溅射室 + 进样室），能有效提高主真空腔体的效率并避免污染。系统可获得极高的极限真空度（根据配置，可达 10⁻⁵ Pa 至 10⁻⁶ Pa 量级）
5.仪器放置地点：赛罕校区 学正楼114
6.负责老师姓名：吴倩；办公室：学正楼314；邮箱：870906308@qq.com
