1.仪器名称、型号：高真空离子溅射镀膜仪（Leica EM ACE 600）
3.仪器功能介绍：
徕卡 EM ACE 600 为电镜专用全自动高真空镀膜设备，采用磁控溅射 + 碳蒸发复合工艺。可对绝缘样品镀超薄金 / 铂导电层，消除 SEM 荷电；也可蒸镀碳膜用于 TEM、EDS 元素分析。配备晶振精准控膜厚，样品台可旋转倾斜，镀膜均匀；全流程自动控制，适配生物、高分子、陶瓷、电池、矿物等各类样品电镜前处理。
4.仪器主要参数：原理：磁控离子溅射、碳热蒸发
工作气体：高纯氩气
极限真空：≤2×10⁻⁶ mbar
膜厚控制精度：0.1nm
样品台：可旋转、0~60°倾斜
双镀膜工位，触摸屏全自动操作
5.仪器放置地点：南校区科创楼负一楼B08
6.负责老师姓名：高波；办公室：南校区科创楼514；邮箱：gb426426@163.com
